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Dongjin Semichem以嘉柏微電子材料有限公司(Cabot Microelectronics Corporation, 以下稱嘉柏)為對象,向特許法院提出的『 關於鎢用化學機械研磨(CMP)液』專利部分,1月18日表示專利無效審判中獲得勝訴。

嘉柏是位於美國伊利諾伊的CMP液專門企業,是CMP液領域世界中的第一名企業,Dongjin Semichem是生產包括CMP液的半導體與FPD用等材料的精密化學材料企業,將材料相關核心技術內在化,也是今年創社滿50年的韓國企業。



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成為本次訴訟對象的專利技術是嘉柏在1998年申請並登入,是以能蝕刻鎢的化合物與鎢蝕刻抑製劑構成的化學機械研磨組合物相關技術。CMP液是在半導體晶圓平坦化工程中使用的液態材料,CMP(Chemical Mechanical Polishing)工程在高速迴轉的CMP墊中,吸附半導體晶圓並將晶圓沉積物削平的工程,CMP液甚至擔任CMP墊與半導體晶圓之間附加化學研磨的角色。

Dongjin Semichem在鎢用CMP液這部分獨立開發成功並提高市場占有率,嘉柏以Dongjin Semichem為對象所提出的專利權侵害禁止訴訟,對此,Dongjin Semichem對嘉柏的專利提出專利無效審判,專利審判院表示嘉柏的專利無效。嘉柏先前建立不實的專利而牽制在鎢用CMP液領域Dongjin Semichem到現在,這次判決已暫停嘉柏的戰略。

Dongjin Semichem關係人表示:『透過這次判決想避免基於不實專利或無理的專利訴訟,希望公司彼此之間也以各自的技術力為基礎來開啟這善意的競爭。』『將會持續的技術開發與確保智慧財產權來席捲國內外鎢用CMP液市場』,關係人表達如此的志向。

(工商時報)

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